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半导体行业面临的挑战
作为极优质水（称为超纯水（UPW））的最大消耗行业，半导体行业面临着重大的用水挑战。该行业不仅需要大量高标准的水。
它本身就会产生大量废水，需要满足最低处置或再利用标准。
应用领域
我们提供一系列不同的超滤（UF）膜元件，这些膜元件非常适合制造超纯水（UPW）过程中的预处理阶段。X-Flow 中空纤维超滤膜可解决全部悬浮固体、浑浊物、细菌和病毒。知名的 X-Flow 膜元件 Xiga 64 和 Aquaflex 64 已成为反渗透（RO）预处理的行业标准。
工艺用水处理
半导体行业是超纯水（UPW）的最大消耗产业。超纯水对于硅片表面的清洁和清洗十分关键，而硅片是芯片和光电池的基础。通常情况下，硅片的大小和水质密切相关；硅片越小，所需水质越高。超纯水中的微量杂质可能导致产量降低，甚至致使硅片产生缺陷。随着硅片尺寸不断缩小，去除超纯水中的微量杂质变得越来越重要，其中包括最难去除的二氧化硅。
工艺用水处理
半导体行业是超纯水（UPW）的最大消耗产业。超纯水对于硅片表面的清洁和清洗十分关键，而硅片是芯片和光电池的基础。通常情况下，硅片的大小和水质密切相关；硅片越小，所需水质越高。超纯水中的微量杂质可能导致产量降低，甚至致使硅片产生缺陷。随着硅片尺寸不断缩小，去除超纯水中的微量杂质变得越来越重要，其中包括最难去除的二氧化硅。
二氧化硅以不同方式在水中存在，如溶解状、胶状或颗粒状。水蒸发后，水中的杂质将留在硅片表面，这会损坏硅片表面。例如，二氧化硅可成为传导面之间不必要的桥梁。半导体行业的要求表明，超纯水中二氧化硅（SiO2）的含量不得超过 0.3 ppb。
废水处理
该行业会消耗大量的水，相应地会产生大量废水。监管机构严密监控工业废水生产和潜在的水环境污染，他们主要监测水消耗和排出水的水质。
废水处理
该行业会消耗大量的水，相应地会产生大量废水。监管机构严密监控工业废水生产和潜在的水环境污染，他们主要监测水消耗和排出水的水质。
处理解决方案
X-Flow 膜元件产品组合包括一系列中空纤维和管式膜元件，这些膜元件是专为帮助水和废水处理获得优质流出物和占地面积小而设计的耐用解决方案。
X-Flow 中空纤维膜元件带来卓越的性能、工艺用水生产和流出物精炼。
X-Flow 中空纤维膜元件带来卓越的性能、工艺用水生产和流出物精炼。
Compact 系列（管式）膜元件非常适合用于以气提和错流模式进行的直接废水处理等。
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